Home · Machine Onderdelen · Schroeven PVD coaten · Physical Vapour Deposition

Physical Vapour Deposition

De opdamptechniek van machineonderdelen voor kunststofverwerkende machines geeft de gebruiker aanzienlijke voordelen bij de realisatie van hogere kwaliteitseisen bij de te produceren eindproducten.

Met deze techniek kunnen ultra dunne lagen worden aangebracht met een zeer diverse samenstelling, metallisch maar ook keramisch.

Onderverdeling:
Het opdampproces kan zo worden onderverdeeld:
Bij gereduceerde atmosferische druk:

  • PVD (Physical Vapor Deposition)
  • Sputteren (ionplating/ionenimplantatie): In een plasma wordt een potentiaalverschil gecreëerd waardoor het spettert op het substraatoppervlak.

Bij normale druk:

  • Thin-Film Deposition (dunne laag afzetting): Opdampproces waarbij, net als met rijp, materiaal op een substraat (ondergrond) aangroeit.

Werkingsprincipe:
Op het al dan niet verwarmde substraat wordt als gevolg van een fysische reactie, waarbij een materiaal overgaat van de vaste naar de damptoestand, opgedampt of neergeslagen.

Opdampen:
In de Physical Vapour Deposition (PVD) technologie worden door condensatie van atomen of moleculen uit een gas of damp dunne lagen aangebracht op een drager (substraat).
Karakteristiek voor de PVD technologie is dat de technieken worden uitgevoerd onder vacuüm.
De technologie kan door zijn principe en uitvoering in een gesloten systeem als een schone techniek worden aangemerkt. PVD is een zogenaamde 'line-of-sight' oppervlakte-bedekkingstechnologie.

Voor PVD houdt dat in dat er een richtingseffect is, bij de deeltjes die de laag gaan vormen, vanuit de bron naar het substraat. Om een 3D-vorm toch gelijkmatig te kunnen bedekken is het bij PVD nodig een dergelijk voorwerp in de reactor rond te draaien (zie figuur 3), zodat aan alle kanten bedekkingsmateriaal wordt aangevoerd. Dit draaien gaat ten koste van een hoge beladingsgraad van de reactor.

PVD is een veelzijdige techniek waarmee vrijwel ieder type van anorganisch materiaal (metalen, legeringen en verbindingen) op een atomaire of moleculaire basis, atoom na atoom of molecuul na molecuul, in de vorm van een coating kan worden opgebouwd. Door deze opbouw is het niet alleen mogelijk zeer zuivere materialen af te zetten, maar kan men ook bewust bepaalde verontreinigingen in een groeiende laag opnemen.
Zo kunnen lagen met beheerste eigenschappen worden vervaardigd, waarvan men de samenstelling, de dikte, dichtheid en textuur in de hand heeft. aangebracht. Een tweede groep materialen die breed worden toegepast als coating, zijn verbindingen als nitrides, carbides en oxides.
 
Voordelen van de PVD laag zijn - verhoogde standtijd vanwege een zeer harde oppervlakte ( bvChromnitrit 1800 - 2500 HV (2 - 3 fache Nitrierhartheid)).

De PVD laag kan worden bij revisie worden verwijderd en opnieuw opgebracht worden.

PVD lagen zijn onderhevig aan zeer hoge slijtageeisen en volledige nakoming van de ingegeven procesparameters is van groot belang.

Doordat in PVD de depositie-temperaturen relatief laag zijn, kan gebruik worden gemaakt van een ruime substraatkeuze. Als materiaal worden vooral metalen en metaallegeringen.

Download hier de productinformatie.

ETP Plastics Hardenberg

Social Media

 

ETP Plastics op Twitter ETP Plastics op Facebook Bekijk video's op ons YouTube kanaal ETP Plastics op Google+ ETP Plastics op Instagram 

Direct Contact

Tel.: (0523) 712 402

Fax: (0848) 838 830

Email: info@etpplastics.nl

Adresgegevens:

ETP Plastics B.V.

Postbus 105
7770 AC Hardenberg 

 

zie ook: contactgegevens